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論文

Heat stability of Mo/Si multilayers inserted with silicon oxide layers

石野 雅彦; 依田 修; 佐野 一雄*; 小池 雅人

X-Ray Mirrors, Crystals, and Multilayers II (Proceedings of SPIE Vol.4782), p.277 - 284, 2002/12

Mo/Si多層膜の耐熱性向上を目的に、多層膜界面に厚さ2.0nmのSiO$$_{2}$$を挿入した試料を成膜した。多層膜試料の耐熱性を評価するため、600$$^{circ}C$$までの熱処理を行った。その結果、Mo-on-Si表面にSiO$$_{2}$$層を挿入したMo/Si/SiO$$_{2}$$多層膜が400$$^{circ}C$$における熱処理後も高い軟X線反射率を維持することがわかった。各界面にSiO$$_{2}$$層を挿入したMo/SiO$$_{2}$$/Si/SiO$$_{2}$$多層膜は、高い耐熱性を有するが、酸素による吸収が大きいため、高い軟X線反射率が期待できない。SiO$$_{2}$$層による軟X線反射率の低下を抑えるために、Mo/Si多層膜界面に挿入するSiO$$_{2}$$層の厚さの最適化を試みた結果、Si-on-Mo界面に0.5nm,Mo-on-Si界面に1.5nmのSiO$$_{2}$$層を挿入したMo/SiO$$_{2}$$/Si/SiO$$_{2}$$多層膜が高い耐熱性と高い軟X線反射率を持つことを見いだした。

論文

New type of Monk-Gillieson monochromator capable of covering a 0.7- to 25-nm range

小池 雅人; 佐野 一雄*; 原田 善寿*; 依田 修; 石野 雅彦; Tamura, Keisuke*; Yamashita, Kojun*; 森谷 直司*; 笹井 浩行*; 神野 正文*; et al.

X-Ray Mirrors, Crystals, and Multilayers II (Proceedings of SPIE Vol.4782), p.300 - 307, 2002/07

0.7-25nmの広い波長範囲においける軟X線光学素子評価を行うために必要な分光器として、2タイプのMonk-Gillieson型分光器を結合した複合型分光器を開発した。第一の分光器(波長走査範囲; 2.0-25nm)は格子定数が異なる3種類の不等間隔溝を搭載した従来のタイプであり、2つの偏角での使用が可能である。第二の分光器(同; 0.7-2.0nm)は、Surface Normal Rotation(SNR)に基づく走査メカニズムを使用する新しいタイプである。SNRの特長は、回折格子中心の法線の周りの回転運動のみという簡単な走査メカニズムで高回折効率を実現できるところにある。開発した軟X線光学素子評価システムは、立命館大学SRセンターにある超伝導コンパクトストレージリングに設置され、軟X線多層膜,同回折格子等の評価に利用中である。本発表においては複合型Monk-Gillieson型 分光器の光学,機械設計について述べる。さらに、SNRタイプの場合の波長較正法,0.8 nm付近でのアルミニウム薄膜の透過率測定,0.7-2nmでのMgO粉末からの光電子測定などの予備的実験結果について述べる。

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